1、原子层沉积
原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)作为一种基于表面自限制反应的化学气相沉积技术,具有优异的均匀一致性和亚纳米厚度可控性,可对微纳米颗粒精确控制包覆厚度、...
2、原子层沉积技术
...面复合速率（SRV），提高太阳能电池的短路电流和开路电压，进而使光电转换效率提高。原子层沉积技术（Atomic Layer Deposition，ALD）是一项薄膜沉积的新工艺，用它来沉积的氧化铝钝化材料在太阳能电池中得到了应用，并在实验室得到了较高的转化效率。
3、原子层沉积法
...的材料沉积，但仍具有相同的沉积厚度，改善阻抗层的一致性和均匀性，就45奈米制程来说，原子层沉积法（Atomic Layer Deposition，ALD）是较为适用的，利用Molecular-Level的控制，可以达到100％的Step Coverage...
Atomic Layer Deposition System原子层沉积系统;沉积系统
ALD-atomic layer deposition原子层沉积技术
Atomic Layer Chemical Vapor Deposition或原子层化学气相沉积;也称为原子层化学气相沉积